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    二硅化鈷 Cobalt disilicide(CoSi2)
    產(chǎn)品名稱(chēng):二硅化鈷(CoSi2) 規格:0.8-10um(D50)   形貌:不規則 顏色:黑灰色  特點(diǎn):電阻率低、良好的熱穩定性 用途:大規模集成電路
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    產(chǎn)品詳情
    二硅化鈷 Cobalt disilicide(CoSi2)

    產(chǎn)品名稱(chēng):二硅化鈷(CoSi2

    規格:0.8-10um(D50)  

    形貌:不規則

    顏色:黑灰色 

    特點(diǎn):電阻率低、良好的熱穩定性

    用途:大規模集成電路

     

    中文名稱(chēng):硅化鈷
    化學(xué)式:CoSi2
    分子量:115.104
    CAS號:12017-12-8
    EINECS號:234-616-8
    密度:5.3g/cm3
    熔點(diǎn):1277℃
    晶格常數:a=0.535nm
    晶系:立方系結晶
    外觀(guān):呈灰色的硅化物陶瓷粉末
    溶解性:不溶于水

    性質(zhì)與穩定性:遵照規格使用和儲存則不會(huì )分解。CoSi2可與熱的鹽酸作用,溶于鹽酸,不溶于硫酸。能被王水、濃硝酸、強堿溶液及熔融的氫氧化堿和碳酸堿所侵蝕??膳c硫化氫、氟化氫、氯化氫、氟、氯等發(fā)生化學(xué)反應。
    合成方法:
    按照CoSi2的化學(xué)組成比將鈷粉與硅粉混合均勻,在隔絕空氣的條件下將其熔融,并在1150℃的溫度下保溫100h,使其充分均質(zhì)化,產(chǎn)物為接近單一相的CoSi2。
    用途:硅化鈷粉末具有電阻率低、熱穩定性好等特點(diǎn),主要用于大規模集成電路。此外,硅化鈷具有類(lèi)似于硅的晶體結構,因此可以在硅襯底上形成外延CoSi2/Si結構,以研究外延金屬硅的界面特性。硅化鈷(cosix)是金屬與半導體連接所廣泛所采用的材料,其作為半導體之基電極與金屬導線(xiàn)之間的連接(inter-connect)在器件中工作。
    貯存方法:保存于干燥、陰涼的環(huán)境中,不宜暴露空氣中,防受潮發(fā)生氧化團聚,影響分散性能和使用效果。

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